Xem mẫu
- Phún xạ (tiếp)
Cải thiện việc sử dụng bia nhờ thay đổi hình dạng các nam
nam
châm (tiếp)
châm p)
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 21
21
- Phún xạ (tiếp)
Magnetron không cân bằng
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 22
22
- Phún xạ (tiếp)
Các loại magnetron
Magnetron các loại khác nhau cho phép thay đổi các tính chất từ trường của nguồn
với các hiệu ứng được tạo ra như sau:
Unbalance (Không cân bằng): Bằng cách thay đổi góc ra của các đường sức từ
Unbalance
trường trong các magnetron không cân bằng có thể điều chỉnh số lượng điện tử được
tr
thoát ra, do đó, cả mức độ bắn phá ion đối với màng mỏng được tạo thành.
tho nh.
Balance (Cân bằng): Dùng để giảm thiểu lượng năng lượng bổ sung cho màng mỏng
Balance ng
mọc trên đế và tạo ra điều kiện bắn phá ion thấp.
p.
Field Strength (Cường độ từ trường): Thay đổi cường độ từ trường để điều chỉnh nh
cường độ và hiệu điện thế phóng điện. Có thể sử dụng để bù trừ với thay đổi điện áp
gây ra bởi hiện tượng ăn mòn bia trong quá trình phún xạ.
gây
Magnetic Field Shape (Phân bố từ trường): Thay đổi phân bố từ trường trong không
Magnetic ng
gian gây ra sự biến đổi tương tác giữa plasma với anode nhằm điều chỉnh áp suất làm
gian nh
viiệc cực tiểu.
v u.
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 23
23
- Phún xạ (tiếp)
Cơ chế lấp đầy các rãnh, bước trong màng mỏng phún xạ
Năng lượng của các nguyên tử tới bề mặt
màng ~ 1 – 15 eV.
ng
Các nguyên tử vật liệu màng bị bứt ra do ra
quá trình bắn phá bởi các ion Ar + sẽ lại tái
qu
lắng đọng sau khi truyền bớt động năng cho
ng
các nguyên tử khác trong màng và tìm được
vị trí có lợi về mặt năng lượng.
ng.
Quãng đường tự do trung bình của các
nguyên tử tới được tính theo công thức thực
nguyên
nghiệm:
nghi m:
L (cm) = 5x10-3/P (torr)
(cm) /P
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 24
24
- Phún xạ (tiếp)
Vi cấu trúc của các màng mỏng phún xạ
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 25
25
- Phún xạ (tiếp)
Thiết bị phún xạ trong công nghiệp
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 26
26
- Phún xạ (tiếp)
Các ưu điểm của phương pháp phún xạ
Tốc độ mọc màng cao
Diện tích của màng mỏng lớn, với độ đồng đều cao
Có tính bám dính tốt giữa các vật liệu màng mỏng và đế
nên có thể thay đổi ứng suất trong màng mỏng
Có thể tạo màng phún xạ kim loại, điện môi hay bán dẫn
Có thể tạo màng phún xạ với các vật liệu hợp chất thích hợp
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 27
27
- Cám ơn đã theo dõi !!!
!!!
Mọi góp ý, bổ sung xin gửi đến:
Dr. Le Tuan
Hanoi University of Technology
Institute of Engineering Physics
Dept. of Electronic Materials
2nd Floor, C9 Building
1 Dai Co Viet Str., Hanoi, Vietnam
Mobile: 0912 560 536
E-mail: le.tuan@vnn.vn
Đại học Bách khoa Hà Nội
Bá Hà
2/2/2006 28
28
nguon tai.lieu . vn
