Xem mẫu

Nghiên cứu chế tạo màng ITO bằng phương pháp phún xạ Magnetron GVHD: TS. Lê Trấn HVTH: Nguyễn Thanh Tú Nội dung 1 Tổng quan 2 Thực nghiệm Màng ITO Phương pháp phún xạ magnetron Các bước tạo màng Các phương pháp xác định tính chất của màng 3 Kết quả Khoảng cách bia đế Công suất phún xạ Nhiệt độ đế Độ dày màng Khí oxi Xử lý nhiệt sau khi phủ Page  2 Page  3 Màng ITO ITO: hỗn hợp của Indium oxide (In2O3 ) và Tin Oxide (SnO2), Cơ chế dẫn điện: các electron dẫn sinh ra do có sự pha tạp donor hoặc do sự thiếu oxi trong cấu trúc màng Có độ truyền qua cao ở vùng khả kiến và điện trở suất thấp Dùng làm điện cực trong suốt trong các loại màn hình, pin mặt trời màng mỏng, OLED… Page  4 Ưu điểm của phương pháp phún xạ Magnetron Nhiệt độ đế thấp, có thể xuống đến nhiệt độ phòng Độ bám dính tốt của màng trên đế Vận tốc phủ cao, có thể đạt 12 µm/phút Dễ dàng điều khiển Các hợp kim và hợp chất của các vật liệu với áp suất hơi rất khác nhau có thể dễ dàng phún xạ Phương pháp có chi phí không cao Có khả năng phủ màng trên diện tích rộng Page  5 ... - tailieumienphi.vn
nguon tai.lieu . vn